主要実験設備主要実験設備
| 偏光ホログラム露光光学系 |
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| ガルバノ偏光変調露光描画系 |
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| 特殊偏光（偏光渦）発生・記録光学系 |
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| THzレーザー発振システム |
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| He
-Cdレーザー 2台 （金門光波、IK3501R-G、波長325nm、出力50mW） |
YAG
（第２高調波）レーザー （Quantum、Torus532-100s、波長532nm、出力100mW、計２台) |
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YAG(第２高調波）レーザー |
DPSSグリーンレーザー (Spectra Physics、PC14584、波長488nm、出力50mW) |
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| Nd:YAGレーザー（LOTIS社製LS-2136-LP） 波長1064 nm、パルス幅20 ns、パルスエネルギー40 mJ以上、繰返し周波数50 Hz |
光スペクトラムアナライザ（ADVANTEST社製Q8344A） 測定範囲350 nmから1750 nm、最高分解能0.05 nm |
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| アルゴンイオンレーザー （Omnichrome、Argon457-529、波長514nm、出力500mW) |
高出力He-
Neレーザー |
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Nd-YAG赤外レーザー | 半導体レーザースターターセット（構成品・・・電流コントローラー：LDC205C,温度コントローラー：TED200C, TEC LDマウント：TCLDM9） |
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| テラヘルツ分光解
析プラットフォーム（ADVANTEST社製TAS7500TS） 帯域：0.1-4.0THz 分解能：3.8GH ダイナミックレンジ：60dB以上 |
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| 透過型液晶空間光変調器 （Holoeye、LC2002) |
反射型液晶空間光変調器 (浜松フォトニクス、LCOS-SLM、X10468-04) |
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| 自由空間型EO位相変調器：EO-PM-NR-C4(400nm～600nm対応) |
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| ビームプロファイラー （Visulux、62101、CMOS、1280×960pixcel) |
マイクロビームプロファイラ (μBeam-X-USB2.0, Duma Optronics製、波長域：480-1800nm、測定可能最小ビーム径：0.5μm 保有対物レンズ：20倍、50倍、100倍) |
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| ビームプロファイラ （Coherent、LaserCam-HR、波長300-1100nm対応、 1280×1024pixcel) | ナイフエッジ式ビームプロファイラ (シグマ光機、OS-BA-SAT、紫外対応、190nm～1100nm) |
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EO変調器（低電圧駆動型） |
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| CCDスペクトロメータ（紫外） （Ocean Optics、高分解能ファイバマルチチャンネル分光器、HR4000) |
CCDスペクトロメータ （可視） (Ocean Optics、USB4000、200-850nm) |
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| 表面粗さ計 （東京精密 Surfcom130A） |
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| 干渉顕微鏡 (菱化システム社製VertScan R3300FL-Lite-AC、対物レンズ倍率：x5,x10,x20,x50,x100、厚さ方向分解能：0.01nm） | Optical MicroGauge 厚み計（浜松フォトニクス、C11011-01、測定膜厚範囲25μm～2200μm（ガラス）、10μm～900μm（シリコン）、測定精度±0.1%） |
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偏光顕微鏡 |
高性能光学除振台 (駿河精機(180×120cm)、他10台) |
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| ガルバノスキャナ（SCANLAB社製SCANcube@10、 適用波長：250nm-700nm、レンズ：f=56mm） |
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| 光
学実験用温度コントローラ・ステージ （INSTEC、mk1000、-30～120℃) |
紫
外線均一露光装置（偏光露光可） (山下電装、KIN-ITSU-KUN、波長313/356nm) |
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スピンコーター |
スパッタ・コーター (SANYU ELECTRON SC-701) |
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UVナノインプリント実験成形装置（真空対応） |
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| 電界放射形走査電子顕微鏡 (FE-SEM) S-4000 (Hitachi) |
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| 任意波形信号源とオシロスコープ （任意波形信号源：INSTEK AWG-3051 50MHz、4chデジタルオシロ：INSTEK GDS-2064 60MHz) |
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| ポラリメータ（偏光測定計）
２台 (THORLABS PAX7510VIS-T) |
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| 電磁界シミュレーション用パーソナルクラスタコンピュータ （HPCシステムズ、 BoxClusterXN(2.53M8-4/1-12G)-SIP、Linux） |
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