GD-OESとは？GD-OESで何がわかるか

GD-OES（Horiba GD-Profiler2）の特徴

★簡便・迅速な表面分析

GD-OESは高真空を必要としない装置です．排気系はロータリーポンプのみです．そのため，試料室を高真空に維持することが必要なX線光電子分光装置（XPS）やオージェ電子分光装置（AES）などの表面分析装置と比較すると，簡便に分析を行うことができます．また，スパッタリング速度が1～20 μm/minと高速であるため，深さ方向の分析を迅速に行うことができます．

★対象元素：H〜U

測定対象とする元素はH～Uです．水素を含めてほぼ全ての元素の分析が可能です．

★非導電性材料の表面分析が可能

高周波方式グロー放電により，金属材料だけでなく，セラミックスやガラスなどの非導電性材料の表面分析も可能です．また，パルススパッタにより試料への熱ダメージを低減することができるため，有機膜などの分析も可能となっています．

GD-OES測定用の試料について

測定可能な試料

金属、セラミックス・ガラス

試料形状

固体（バルク）

試料サイズ

数cm角の平板

試料に関する注意

アノードに付属しているOリング（直径10 mm）よりも試料のサイズが小さかったり，試料とアノードが密着せずに隙間が生じると，リークの発生によりアノード内を真空に保つことができません．したがって，試料は数cm角の平板であること，空気を通さないこと，ならびに試料の表面が平坦であることが求められます．
GD-OESは破壊分析です．測定により，試料の表面（アノード側）に直径4 mm程度のスパッタ痕が形成されます．
定量分析を行うためには，標準試料を用いて検量線を作成する必要があります．また，材料のスパッタリングレートの値が必要です．スパッタリングレートの値が未知の材料の場合，測定後にスパッタ痕の深さを表面粗さ測定機により求め，そこからスパッタリングレートを算出します．

試料の調整方法

試料は銅製のアノード（内径4 mm）に取り付けます．試料を取り付けた後，アノード内を真空引きすることで試料をアノードに密着させたのち，試料の背面に高周波発振子をセットしてシリンダーで抑え，測定を行います．

Horiba GD-Profiler2の利用について

利用方法

現地利用　
半遠隔利用　web会議システムによる現地スタッフとの協働的な利用
完全遠隔利用　リモートデスクトップ機能による単独での利用

利用補足

機器を直接操作（現地利用）するにはスタッフから講習を受けて操作方法を習得後、スタッフが行う技能認定試験に合格する必要があります。